2025年3月29日消息，國家知識產權局信息顯示，聚燦光電科技（宿遷）有限公司申請一項名為“一種高激光剝離良率的Mini/Micro LED同步刻蝕方法”的專利，公開號CN 119698138 A，申請日期為2024年12月。
專利摘要顯示，本發明提供一種高激光剝離良率的Mini/Micro LED同步刻蝕方法，首先，使用ISO光罩將溝道圖形精確轉移到芯片表面；其次，在ICP刻蝕條件下對隔離外延層進行部分預刻蝕，去除部分外延層厚度，確保刻蝕不會觸及芯片襯底；然后，沉積SIO DBR層，并在ICP條件下對SIO DBR層和隔離外延層進行同步再刻蝕，去除藍寶石襯底底部的SIO DBR層，同時保留溝道側壁的SIO DBR層。本發明通過精確控制ICP功率、氣體流量、刻蝕時間，實現了刻蝕均勻性控制在±5nm以內，大幅減少了碎屑產生，提高了激光剝離良率。此外，通過實時動態反饋控制和高性能ICP設備的使用，確保工藝穩定性和可重復性。
天眼查資料顯示，聚燦光電科技（宿遷）有限公司，成立于2017年，位于宿遷市，是一家以從事計算機、通信和其他電子設備制造業為主的企業。企業注冊資本300000萬人民幣，實繳資本60000萬人民幣。通過天眼查大數據分析，聚燦光電科技（宿遷）有限公司共對外投資了1家企業，參與招投標項目42次，財產線索方面有商標信息1條，專利信息160條，此外企業還擁有行政許可31個。
本文源自金融界